課程名稱 |
半導體製程概論 Introduction to Semiconductor Processing |
開課學期 |
101-2 |
授課對象 |
工學院 化學工程學系 |
授課教師 |
徐振哲 |
課號 |
ChemE5004 |
課程識別碼 |
524 U0280 |
班次 |
|
學分 |
3 |
全/半年 |
半年 |
必/選修 |
選修 |
上課時間 |
星期一7,8,9(14:20~17:20) |
上課地點 |
化工一 |
備註 |
化工選修課程。 限學士班四年級以上 總人數上限:90人 |
Ceiba 課程網頁 |
http://ceiba.ntu.edu.tw/1012semiprocessing |
課程簡介影片 |
|
核心能力關聯 |
核心能力與課程規劃關聯圖 |
課程大綱
|
為確保您我的權利,請尊重智慧財產權及不得非法影印
|
課程概述 |
說明半導體元件基礎物理性質與運作原理,簡介積體電路製程內容 |
課程目標 |
1. 熟悉半導體基礎物理性質
2. 初步瞭解半導體元件運作原理
3. 熟悉積體電路製程單元內容
4. 運用輸送現象, 化工動力與熱力學於積體電路製程單元之分析
|
課程要求 |
先修科目或先備能力:輸送現象 |
預期每週課後學習時數 |
|
Office Hours |
|
指定閱讀 |
TBD |
參考書目 |
教科書1 半導體製程技術導論,Hong Xiao著,羅正忠、張鼎張譯,台灣培生教育出版股份有限公司
|
評量方式 (僅供參考) |
No. |
項目 |
百分比 |
說明 |
1. |
作業 |
30% |
|
2. |
期中考 |
30% |
|
3. |
期末考 |
40% |
|
|
週次 |
日期 |
單元主題 |
第1週 |
02/18 |
Introduction |
第2週 |
2/25 |
Semiconductor Physics |
第5週 |
3/18/2013 |
Semiconductor Physics |
第7週 |
4/1 |
Semiconductor Physics |
第8週 |
4/8 |
Silicon Wafers |
第10週 |
4/22 |
Oxidation and Diffusion |
第12週 |
5/6/2013 |
Lithography |
第13週 |
5/13/2013 |
Plasma and Vacuum |
第15週 |
5/27 |
Ion Implantation and Etching |
第16週 |
6/3 |
CVD, Metallization |
第17週 |
6/10 |
CMP, Special Topic |
|